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半導體污水處理設備

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更新時間:2024-05-22 15:36:54瀏覽次數(shù):321

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產(chǎn)品簡介

簡介:  隨著電子產(chǎn)品的應用領(lǐng)域在不斷的擴大,半導體涉及的行業(yè)也越來越廣泛,半導體工業(yè)不僅對于純水的要求高,在產(chǎn)品制作的過程中將會產(chǎn)生大量的工業(yè)污水,因生產(chǎn)產(chǎn)品的原材料不同,所以產(chǎn)生的廢水的廢水性質(zhì)也不同

詳細介紹


  簡介:

  隨著電子產(chǎn)品的應用領(lǐng)域在不斷的擴大,半導體涉及的行業(yè)也越來越廣泛,半導體工業(yè)不僅對于純水的要求高,在產(chǎn)品制作的過程中將會產(chǎn)生大量的工業(yè)污水,因生產(chǎn)產(chǎn)品的原材料不同,所以產(chǎn)生的廢水的廢水性質(zhì)也不同。

  廢水處理難點 :

  1、半導體廢水處理污染物種類多,成分復雜;

  2、含有多種重金屬、氟、硅以及有機廢水等;

  3、含有高濃度的極細懸浮顆粒;

  4、工業(yè)的污水排放量大;

  5、廢水濃度低,水質(zhì)變化大;

  6、廢水中含金屬離子種類較多,需分開收集進行處理;

 


  工藝流程:

  含氟廢水:半導體含氰清洗水的處理一般采用兩級堿性氧化法處理工藝,半導體廢水處理設備設有機械攪拌系統(tǒng)、PH控制系統(tǒng)、ORP控制系統(tǒng)以及加藥(酸、堿、氧化劑)系統(tǒng),將廢水pH值調(diào)節(jié)在10.5-11之間,ORP值300- -4oo mv,進行一級氧化破氰,反應時間為15 ~ 20min。

  當進行二級氧化破氰時,廢水的pH值調(diào)節(jié)在pH在10.5-11之間,ORP值300- -4oo mv,反應時間15 ~ 20min,將CN-氧化就為CN0-。

  有機廢水一般采用經(jīng)濟高效的生化法,如單獨的好氧法或與缺氧法、厭氧法組合工藝,對于廢水中COD、氨氮、總氮等常規(guī)污染物去除效果非??捎^。.

  金屬離子廢水則需針對不同廢水不同種類進行選擇,常用的有化學沉淀法、吸附法、離子交換法等。

 


  洛哈斯水處理半導體廢水處理設備優(yōu)勢:

  1、占地面積小,整體造型美觀;

  2、操作方便,運營成本低;

  3、免費提供1對1定制方案;

  4、自主研發(fā)技術(shù),30年行業(yè)沉淀,確保污水穩(wěn)定達標排放;

  5、自主研發(fā)系統(tǒng),投資性價比高;

  6、清污分流,分類分級處理;


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